双面磨板机的变化取决对材料的控制

　　本机为12英寸晶片支撑相应的双面磨板机的大规模量产。上压板和下压板在相反的方向旋转时，分别载流子的上，下压板之间夹持将在下部压板的旋转方向旋转而旋转。因此给定运动的四个方向中的工件在载体中。
　　　12英寸芯片支持20张1批包双方同时，设置在上压板和下压板和载流子的旋转比，搭接速度快，并且实现的加工精度高的水平- 较低的压板，该上压板，所述太阳齿轮，在一个不同的驱动器操作每个内齿轮，是改变转速，更优的加工条件，可以选择·由上压板至空气气缸自动上升，下降时，集而不给予冲击到工件，去除可能配有无级变速器，它允许选择适合工件转速上压板，下压板的平坦度很容易被改性载体保持如果装有一个弹簧机构（专利），以在上表面板吊架，在来电显示的禁止的工件开裂，能够防止碎裂，光滑和能够传递载荷的。
　　
　　装置中，由研磨材料混合与压缩空气是执行处理以从喷嘴喷出的装置。由碰撞快速且稳定地注入磨料硬脆材料上，进行表面加工。到高精度的机械加工，有必要定量和稳定喷射磨料的，并制定喷射系统的数字控制，它已经被安装。此外，取出异物系统，以防止异物开发的污染，它配备。
　　
　　磨板机控制是为了处理能力超喷嘴（专利）的同时，以控制的速度和治疗的均匀性速度在喷嘴缝隙大小的联合财富（5系列可达30-250毫米）60英寸还可以在100被处理50大尺寸150（变化取决于材料）为了控制注射量数字达到高重复性和深度的注射液稳定性控制（专利）喷射量的精度±3％注射方法（直接压力，重力）使用粒径范围605μm的为了控制磨料响应物质和（工件）的状态工作，并从丰富的阵容提供了^好的一种磨料的国家在高性能旋风设备的优化管理的异物如开裂，碎裂工作的紧急事件处理过程中发生的分离。
　　
　　大直径，特点是对应单面抛光机的批量生产的硅晶片或类似物附着在基板上，抛光，高精度和高效率。高精度φ8晶片，它是有效的高效率的研磨。转盘可以不定期拨任何一个人无级为0-50转。硅晶片或类似物安装在底板的抛光，以高精度和高效率晶片的高准确度，它是有效的高效率的抛光转盘为0-50转不规则可能的拨任何一个人无级坐垫开始配备有装置，该晶片没有损坏抛光负载之间，4轴无负载变化的自重系统（5％以内）基板装卸，从一个地方前主体框架可移动，工人的工作范围也小，节省空间通过将所述传输臂，基板的自动传送，推进可能的自动化对应。